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VCD高真空箱的主要技术指标

更新时间:2025-01-04   点击次数:294次

一、简介VCD高真空箱主要应用于航空、航天、军事、电子、通讯、光电等科研及生产单位。集公司多年在真空设备成功经验,通过不断潜心研究,突破传统技术创造性解决了精密高真空设备的控制难点,能精准控制133Pa以下的真空度



二、主要技术指标:

规格型号: HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600

内箱尺寸(mm) 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600

外形尺寸(mm): 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650

真空度范围: 100000Pa1Pa

控制方式: 真空计显示或PLC触摸屏控制

结构: 一体式结构(内置真空泵)或分体式(外置真空泵)

内箱材质: SUS304#不锈钢

外箱材质: SECC钢板高级烤漆处理

使用电源: AC 单相 三线 220V 50HZAC 三相 五线 380V 50HZ

选加功能: 加热功能(RT+10℃~200℃)

真空泵: 另购(可用户自备)





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